[发明专利]非晶氧化铟锌/氧化铟纳米晶同质复合薄膜晶体管及其制备方法有效
申请号: | 201110443501.3 | 申请日: | 2011-12-27 |
公开(公告)号: | CN102509735A | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
发明(设计)人: | 廖蕾;王春兰;刘曰利;刘兴强;陈文;贺彪 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | H01L29/24 | 分类号: | H01L29/24;H01L29/10;H01L29/786;H01L21/336 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 汪俊锋 |
地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供了一种非晶氧化铟锌/氧化铟纳米晶同质复合薄膜晶体管,以非晶氧化铟锌/氧化铟纳米晶同质复合薄膜为半导体沟道层,在复合薄膜中,复合的纳米氧化铟和氧化铟锌的摩尔比为0.5%~1%。将0.5%~1%摩尔比的氧化铟纳米颗粒加入到铟盐-锌盐复合胶体溶液中,利用旋涂法和煅烧,制备出高性能的氧化铟锌薄膜,再将其进行微纳加工如光刻、刻蚀、再光刻以及电极的蒸镀和剥离制备出复合型薄膜场效应晶体管。通过控制工艺条件,可以得到具有高迁移率的场效应晶体管,并且使其具备较高的透光性能。制备方法成本低廉,可实现大规模批量生产。 | ||
搜索关键词: | 氧化 纳米 同质 复合 薄膜晶体管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种非晶氧化铟锌/氧化铟纳米晶同质复合薄膜晶体管,其特征在于,以非晶氧化铟锌/氧化铟纳米晶同质复合薄膜为半导体沟道层,在复合薄膜中,复合的纳米氧化铟和氧化铟锌的摩尔比为0.5%~1%。
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