[发明专利]使用两层式结构涂层来制造构件的方法有效
| 申请号： | 201110436563.1 | 申请日： | 2011-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN102560481A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | R·S·班克;D·M·利普金 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C23C26/00 | 分类号： | C23C26/00;C23C28/00;F01D5/18 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李强;谭祐祥 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及使用两层式结构涂层来制造构件的方法。提供了一种制造构件的方法。该制造方法包括使第一结构涂层层淀积在衬底的外表面上。衬底具有至少一个空心内部空间。该制造方法进一步包括通过第一结构涂层层而加工衬底，以在第一结构涂层层中限定一个或多个开口，以及在衬底的外表面中形成相应的一个或多个凹槽。各个凹槽均具有相应的基部，并且至少部分地沿着衬底的表面延伸。该制造方法进一步包括使第二结构涂层层淀积在第一结构涂层层上面以及在凹槽(一个或多个)上面，使得凹槽(一个或多个)和第二结构涂层层共同限定一个或多个通道以冷却构件。还公开了一种构件。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 两层式 结构 涂层 制造 构件 方法 | ||
【主权项】：
一种制造构件(100)的方法，所述方法包括：使第一结构涂层层(54)淀积在衬底(110)的外表面(112)上，其中，所述衬底(110)具有至少一个空心内部空间(114)；通过所述第一结构涂层层(54)而加工所述衬底(110)，以在所述第一结构涂层层(54)中限定一个或多个开口(58)，以及在所述衬底(110)的所述外表面(112)中形成相应的一个或多个凹槽(132)，其中，所述一个或多个凹槽(132)中的各个均具有基部(134)，并且至少部分地沿着所述衬底(110)的所述表面(112)延伸；以及使所述第二结构涂层层(56)淀积在所述第一结构涂层层(54)上面以及在所述一个或多个凹槽(132)上面，使得所述一个或多个凹槽(132)和所述第二结构涂层层(56)共同限定一个或多个通道(130)以冷却所述构件(100)。
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