[发明专利]一种工业原子层沉积腔室结构

摘要

一种工业原子层沉积腔室结构，包括真空反应腔室，所述真空反应腔室上设有真空反应腔盖，所述真空反应腔室内安装有能放置多片样品的样品托架，所述真空反应腔室内在样品托架的外围设有对腔室加热的加热线圈，所述加热线圈靠近腔壁的一侧连接有反射热辐射的反光板；所述真空反应腔室在样品托架的中间安装有多根由高到低依次设置的竖直的进气支管，所述进气支管的上端管口是封闭的，其管口向下一段是对着样品吹扫的出气段，所述进气支管均与进气管连接；所述真空反应腔室的底部设有抽气口，所述真空反应腔室内在抽气口与样品托架之间安装有多孔抽气板。本发明的优点是大批量沉积生产薄膜，提高了产量，降低了薄膜的生产成本。

主权项

一种工业原子层沉积腔室结构，包括真空反应腔室，所述真空反应腔室上设有真空反应腔盖，其特征在于：所述真空反应腔室内安装有能放置多片样品的样品托架，所述真空反应腔室内在样品托架的外围设有对腔室加热的加热线圈，所述加热线圈靠近腔壁的一侧连接有反射热辐射的反光板；所述真空反应腔室在样品托架的中间安装有多根由高到低依次设置的竖直的进气支管，所述进气支管的上端管口是封闭的，其管口向下一段是对着样品吹扫的出气段，所述进气支管均与进气管连接；所述真空反应腔室的底部设有抽气口，所述真空反应腔室内在抽气口与样品托架之间安装有多孔抽气板。