[发明专利]一种工业原子层沉积腔室结构

权利要求书

1. 一种工业原子层沉积腔室结构，包括真空反应腔室，所述真空反应腔室上设有真空反应腔盖，其特征在于：所述真空反应腔室内安装有能放置多片样品的样品托架，所述真空反应腔室内在样品托架的外围设有对腔室加热的加热线圈，所述加热线圈靠近腔壁的一侧连接有反射热辐射的反光板；所述真空反应腔室在样品托架的中间安装有多根由高到低依次设置的竖直的进气支管，所述进气支管的上端管口是封闭的，其管口向下一段是对着样品吹扫的出气段，所述进气支管均与进气管连接；所述真空反应腔室的底部设有抽气口，所述真空反应腔室内在抽气口与样品托架之间安装有多孔抽气板。

2. 根据权利要求1所述的一种工业原子层沉积腔室结构，其特征在于：所述样品托架包括多根支柱，每根所述支柱上均开有多个槽，相邻支柱上同一高度的槽之间配合放置样品。

3. 根据权利要求1或2所述的一种工业原子层沉积腔室结构，其特征在于：所述多孔抽气板的小孔沿中间到边缘是由疏到密设置。

4. 根据权利要求3所述的一种工业原子层沉积腔室结构，其特征在于：所述样品托架放置在真空反应腔室内的样品台上，所述多孔抽气板固定连接在样品台上。

5. 根据权利要求4所述的一种工业原子层沉积腔室结构，其特征在于：所述进气支管的出气段的出气方向沿多方向设置。

6. 根据权利要求5所述的一种工业原子层沉积腔室结构，其特征在于：所述进气支管的出气段上开有狭缝或是多个出气孔。

7. 根据权利要求6所述的一种工业原子层沉积腔室结构，其特征在于：所述反光板安装在靠近真空反应腔室内侧面处。