[发明专利]光刻设备和修正光刻设备内的辐射束的方法有效
| 申请号： | 201110435849.8 | 申请日： | 2011-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102540760A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 巴斯迪尔安·斯特凡努斯·亨德瑞克斯·詹森;M·J·A·鲁宾 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻设备和修正光刻设备内的辐射束的方法。所述光刻设备包括安装在辐射束路径中的束修正设备。所述束修正设备包括：管道，配置成允许流体流过，所述管道布置成使得在使用时辐射束穿过管道以及流过所述管道的流体。束修正设备还包括热交换器，其与在流体流动方向上设置在辐射束穿过管道的位置的上游的管道部分热连通。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 修正 辐射 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，所述光刻设备包括安装在辐射束路径中的束修正设备，所述束修正设备包括：管道，配置成允许流体从中流过，所述管道布置成使得在使用时辐射束穿过管道以及流过所述管道的流体；和热交换器，与在流体流动方向上设置在辐射束所穿过的管道位置的上游的管道部分热连通。
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