[发明专利]光刻设备和修正光刻设备内的辐射束的方法

权利要求书

1.一种光刻设备，所述光刻设备包括安装在辐射束路径中的束修正设备，所述束修正设备包括：

管道，配置成允许流体从中流过，所述管道布置成使得在使用时辐射束穿过管道以及流过所述管道的流体；和

热交换器，与在流体流动方向上设置在辐射束所穿过的管道位置的上游的管道部分热连通。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其中流体具有作为其温度的函数进行改变的光学性质。

3.如权利要求2所述的光刻设备，其中光学性质是折射系数。

4.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述辐射束的基本上整个横截面穿过所述管道。

5.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，还包括热交换控制设备，所述热交换控制设备配置成控制热交换器以使得热交换器能够独立地与多个管道部分进行热交换，其中管道部分中的至少一个管道部分与其他的管道部分中的一个管道部分在跨过流体流动的方向的方向上间隔开。

6.如权利要求5所述的光刻设备，其中管道部分中的所述至少一个管道部分与其他的管道部分中的所述一个管道部分在大体垂直于流体流动方向的方向上间隔开。

7.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中流体流动的方向基本上垂直于辐射束的光轴。

8.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中光刻设备能够以扫描模式操作，并且其中流体流动的方向大体平行于光刻设备的扫描方向。

9.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中光刻设备还包括流体提供设备，所述流体提供设备配置用以提供流体至所述管道，所述流体提供设备和管道配置成使得通过所述管道的流体流动是基本上层状的。

10.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中光刻设备是浸没光刻设备；所述管道至少部分地由浸没罩限定；并且被允许流过管道的流体是浸没流体。

11.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中光刻设备还包括辐射束操纵装置，所述辐射束操纵装置基本上位于光刻设备的投影系统的光瞳平面处，所述辐射束操纵装置配置成操纵辐射束的空间频率分布。

12.一种光刻设备，包括：

光学元件，用于与辐射束相互作用，辐射束限定光学区域；和

束修正设备；

其中所述束修正设备包括安装至可移动构件的加热设备，所述可移动构件能够相对于光学元件在第一位置和第二位置之间移动，在所述第一位置处，加热设备处于光学区域的外部，在所述第二位置处，加热设备处于光学区域中；和

其中加热设备配置成当可移动构件位于第二位置时加热光学元件。

13.如权利要求12所述的光刻设备，其中所述加热设备配置成当可移动构件处于第二位置时加热光学元件的第一范围，并且其中可移动构件能够相对于光学元件移动至第三位置，在所述第三位置中，所述加热设备配置成加热光学元件的第二范围。

14.如权利要求13所述的光刻设备，其中可移动构件配置成使得在第二位置和第三位置之间移动的过程中，加热设备在光学元件上方通过。

15.如权利要求12至14中任一项所述的光刻设备，其中光刻设备能够以扫描模式操作；可移动构件是图案形成装置支撑结构或衬底台；并且第一位置和第二位置之间的相对移动是平移。