[发明专利]一种包覆结构的二硼化钛-镍薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201110418976.7 | 申请日： | 2011-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN103160777A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 黄峰;王博;葛芳芳;王怀勇 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/34 |
| 代理公司： | 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 | 代理人： | 袁忠卫 |
| 地址： | 315201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有包覆结构的二硼化钛-镍薄膜，其特征在于该TiB2-Ni薄膜是以金属Ni为连续相，TiB2晶粒为弥散相原位复合而成，在该TiB2-Ni薄膜中，金属Ni以三维连续胞状结构均匀构成薄膜的基本构架，而TiB2晶粒则以颗粒状均匀的填补在胞状结构内部，形成金属Ni均匀包裹TiB2晶粒的包覆显微结构，其中TiB2含量为60-95at.％，Ni含量为5-40at.％。本发明的包覆结构的TiB2-Ni薄膜表现出了良好的韧性和很高的硬度，这极大扩大了此薄膜的应用范围；同时采用双靶共溅射磁控溅射技术操作方便，通过工艺条件的调控可以很好的控制TiB2-Ni薄膜材料的组成、结构和性能，并且该方法无需后处理工序，制备周期短，成本低，可复现性好，便于实现工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结构 二硼化钛 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种具有包覆结构的二硼化钛‑镍薄膜，其特征在于该TiB2‑Ni薄膜是以金属Ni为连续相，TiB2晶粒为弥散相原位复合而成，在该TiB2‑Ni薄膜中，金属Ni以三维连续胞状结构均匀构成薄膜的基本构架，而TiB2晶粒则以颗粒状均匀的填补在胞状结构内部，形成金属Ni均匀包裹TiB2晶粒的包覆显微结构，其中TiB2含量为60‑95at.％，Ni含量为5‑40at.％。
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