[发明专利]光刻设备、衬底台和器件制造方法在审
| 申请号： | 201110418381.1 | 申请日： | 2011-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN102955369A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | V·普洛斯因特索夫;J·M·范本特恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻设备、衬底台和用于制造器件的方法。一种具有传感器的衬底台包括：设置有对辐射不透明的材料层的材料块体。所述材料层具有配置成允许辐射透过的至少一个窗口。所述传感器包括位于所述窗口处的波长转换材料；和波导，所述波导定位成接收由波长转换材料发出的辐射。所述波导嵌入在所述材料块体中并配置成引导由波长转换材料发出的辐射穿过所述材料块体并将其朝向探测器引导。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 衬底 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种具有传感器的衬底台，所述传感器包括：设置有对辐射不透明的材料层的材料块体，所述对辐射不透明的材料层具有配置成允许辐射透射的至少一个窗口；位于所述窗口处的波长转换材料；和波导，所述波导定位成接收由波长转换材料发出的辐射，所述波导嵌入在所述材料块体中，并配置成引导由波长转换材料发出的辐射穿过所述材料块体并将其朝向探测器引导。
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