[发明专利]接触窗开口的形成方法

摘要

本发明公开一种接触窗开口的形成方法，其包括下列步骤。首先，提供基底，基底包括密集区与独立区。接着，在基底上形成材料层。然后，在密集区中的材料层上形成多个牺牲图案，且在相邻两个牺牲图案之间具有第一开口。接下来，在各牺牲图案两侧分别形成间隙壁，且间隙壁彼此分离设置。之后，移除牺牲图案，而于相邻两个间隙壁之间形成第二开口。再者，形成填满第二开口的平坦层。随后，在平坦层中形成第一狭缝，第一狭缝暴露出位于第二开口下方的部分材料层。继之，移除由第一狭缝所暴露出的部分材料层，而在材料层中形成多个第三开口。

主权项

一种接触窗开口的形成方法，包括：提供一基底，该基底包括一密集区与一独立区；在该基底上形成一材料层；在该密集区中的该材料层上形成多个牺牲图案，且在相邻两个牺牲图案之间具有一第一开口；在各该牺牲图案两侧分别形成一间隙壁，且该些间隙壁彼此分离设置；移除该些牺牲图案，而在相邻两个间隙壁之间形成一第二开口；形成填满该些第二开口的一平坦层；在该平坦层中形成一第一狭缝，该第一狭缝暴露出位于该些第二开口下方的部分该材料层；以及移除由该第一狭缝所暴露出的部分该材料层，而在该材料层中形成多个第三开口。