[发明专利]多抛物面共焦X射线聚焦结构及设计方法无效
| 申请号： | 201110402648.8 | 申请日： | 2011-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN102436861A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | 欧阳名钊;付跃刚;高天元;王加科;刘智颖;张磊;胡源;吴笑谦;李卓霖 | 申请（专利权）人： | 长春理工大学 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 130022 *** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明设计了一种由多个抛物反射面构成的X射线聚焦结构，如图1所示。这种结构由反射工作面1和中心遮拦2构成，反射工作面1由多个抛物反射面组成，它们的焦点为同一点。当X射线以平行于聚焦装置结构轴线的方向入射时，以不大于某一规定的掠入射角入射到每个反射表面，将使得X射线以较高的反射率反射向它们的共焦焦点处。并且由于使用了独特的设计方法设计每个抛物反射面之间环带宽度和抛物反射面的大小，可以最大限度的收集入射到有效口径以内的平行入射X射线。同时由于设置了中心遮拦2，可以保证在有效口径内对于以平行光入射的X射线不会产生不经过反射表面反射直接达到聚焦结构后方的杂散射线。 | ||
| 搜索关键词： | 抛物面 射线 聚焦 结构 设计 方法 | ||
【主权项】：
本发明设计了一种由多个抛物反射面构成的X射线聚焦结构，这种结构由反射工作面1和中心遮拦2构成，反射工作面1由多个抛物线段回转而成，它们的焦点为同一点；
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