[发明专利]多抛物面共焦X射线聚焦结构及设计方法无效
| 申请号： | 201110402648.8 | 申请日： | 2011-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN102436861A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | 欧阳名钊;付跃刚;高天元;王加科;刘智颖;张磊;胡源;吴笑谦;李卓霖 | 申请（专利权）人： | 长春理工大学 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 130022 *** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抛物面 射线 聚焦 结构 设计 方法 | ||
【权利要求书】：
1.本发明设计了一种由多个抛物反射面构成的X射线聚焦结构，这种结构由反射工作面1和中心遮拦2构成，反射工作面1由多个抛物线段回转而成，它们的焦点为同一点；
2.本发明提出了一种由多个抛物反射面构成的X射线聚焦结构的设计方法，通过此种方式建立起来的回转体装置可以保证有效口径内所有平行轴线入射的X射线全部经过反射工作表面以较高的反射率反射到焦点处，同时没有透射的杂散射线照射焦平面。
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