[发明专利]一种静态进样正压漏孔校准装置及方法有效
| 申请号： | 201110396697.5 | 申请日： | 2011-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN102494741A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | 刘赐贤;张涤新;赵澜;冯焱 | 申请（专利权）人： | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一〇研究所 |
| 主分类号： | G01F25/00 | 分类号： | G01F25/00 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 杨志兵;付雷杰 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种静态进样正压漏孔校准装置及方法，属于测量领域。本发明所述装置及方法利用了非蒸散型吸气剂泵的抽气性能，将被校正压漏孔累积的氦气静态引入到校准室中，在四极质谱计上产生氦离子流信号；再配制已知量氦气同样的方法引入校准室，在四极质谱计上产生氦离子流信号，通过简单的计算可获得被校正压漏孔的漏率。该方法大大的缩短了正压漏孔累积需要的时间，同时提高了校准室中的氦气分压力值，提高了校准效率，延伸了校准下限，使得漏率值小于1×10-7Pa m3/s的正压漏孔能够准确校准。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 静态 正压 漏孔 校准 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种静态进样正压漏孔校准装置，其特征在于：所述装置包括：被校正压漏孔(1)、阀门一(2)、电容薄膜规一(3)、氦气瓶(4)、阀门二(5)、电容薄膜规二(6)、阀门三(7)、标准容积一(8)、阀门四(9)、阀门五(10)、监测规(11)、四极质谱计(12)、校准室(13)、阀门六(14)、吸气剂泵(15)、阀门七(16)、分子泵抽气机组一(17)、阀门八(18)、标准容积二(19)、分子泵抽气机组二(20)、阀门九(21)、氮气瓶(22)、阀门十(23)；其中，被校正压漏孔(1)通过阀门一(2)和阀门五(10)与校准室(13)相连，氮气瓶(22)通过阀门十(23)和阀门一(2)与被校正压漏孔(1)相连，电容薄膜规一(3)与阀门一(2)和阀门十(23)相连，氦气瓶(4)通过阀门二(5)和阀门三(7)与标准容积一(8)相连，电容薄膜规二(6)位于阀门二(5)和阀门三(7)之间，标准容积一(8)通过阀门四(9)和阀门八(18)与标准容积二(19)相连，标准容积二(19)通过阀门九(21)与分子泵抽气机组二(20)相连，标准容积一(8)通过阀门四(9)和阀门五(10)与校准室(13)相连，监测规(11)接在校准室(13)上，四极质谱计(12)与校准室(13)相连，吸气剂泵(15)通过阀门六(14)与校准室(13)相连，分子泵抽气机组一(17)通过阀门七(16)与校准室(13)相连。
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