[发明专利]基片上料组件、基片装卸载装置和PECVD设备有效
申请号: | 201110393737.0 | 申请日: | 2011-12-01 |
公开(公告)号: | CN103132055A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 卢川 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/44 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种基片上料组件、基片装卸载装置和PECVD设备,所述基片上料组件包括:料盒,所述料盒内具有用于存放基片的盒腔,所述基片在盒腔内适于沿料盒的上下方向排列成多层且沿料盒的左右方向排列成多排;上料传送带,所述上料传送带用于传送所述基片;和上料机械手,所述上料机械手具有支架、手臂和多个基片吸附件,所述手臂的一端与所述支架相连,所述多个基片吸附件设在所述手臂上且沿所述手臂的长度方向间隔开以便所述上料机械手能够从所述料盒内同一层的多排基片中同时吸附出多个基片放置到所述上料传送带上。根据本发明实施例的基片上料组件,可以提高上料效率,从而提高整体的工作效率。 | ||
搜索关键词: | 基片上料 组件 装卸 装置 pecvd 设备 | ||
【主权项】:
一种基片上料组件,其特征在于,包括:料盒,所述料盒内具有用于存放基片的盒腔,所述基片在盒腔内适于沿料盒的上下方向排列成多层且沿料盒的左右方向排列成多排;上料传送带,所述上料传送带用于传送所述基片;和上料机械手,所述上料机械手具有支架、手臂和多个基片吸附件,所述手臂的一端与所述支架相连,所述多个基片吸附件设在所述手臂上且沿所述手臂的长度方向间隔开以便所述上料机械手能够从所述料盒内同一层的多排基片中同时吸附出多个基片放置到所述上料传送带上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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