[发明专利]一种氮化物发光二极管结构有效

专利信息
申请号: 201110377942.8 申请日: 2011-11-24
公开(公告)号: CN102437262A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 刘军林;江风益;王立;蒲勇;张萌;方文卿 申请(专利权)人: 南昌黄绿照明有限公司
主分类号: H01L33/04 分类号: H01L33/04;H01L33/14;H01L33/12
代理公司: 江西省专利事务所 36100 代理人: 张文
地址: 330047 江西*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明公开了一种氮化物发光二极管结构,它包括衬底,在衬底上设有缓冲层,在缓冲层上设有n型层和p型层,其特征在于:n型层由从下向上依次叠加的n-GaN、n型层内量子阱层和AlxInyGa(1-x-y)N:Si电子注入层构成,p型层由从下向上依次叠加的p型层内发光阱层和p-AlxInyGa(1-x-y)N构成;在n型层和p型层之间设有主发光阱层;n型层内量子阱层的禁带宽度大于或等于主发光阱层的禁带宽度,p型层内发光阱层的禁带宽度等于或接近主发光阱层的禁带宽度。n型层内量子阱层和p型层内量子阱层具有减缓主发光阱层应力、减缓能带弯曲的作用,同时p型层内发光阱层还能使从主发光阱层溢出的电子在其内复合发光,从而提高内量子效率,达到大幅降低发光二极管的制造成本的目的。
搜索关键词: 一种 氮化物 发光二极管 结构
【主权项】:
一种氮化物发光二极管结构,包括衬底,在衬底 上设有缓冲层,在缓冲层上设有n型层和p型层,其特征在于:所述n型层由从下向上依次叠加的n‑GaN 、n型层内量子阱层和AlxInyGa(1‑x‑y)N:Si电子注入层构成,其中0≤x≤1, 0≤y≤1,Si掺杂浓度为1×1018─1×1019 cm‑3,所述p型层由从下向上依次叠加的p型层内发光阱层和 p‑AlxInyGa(1‑x‑y)N构成,其中0≤x≤1, 0≤y≤1;在n型层和p型层之间设有主发光阱层。
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