[发明专利]真空涂覆装置有效
申请号: | 201110373816.5 | 申请日: | 2008-02-29 |
公开(公告)号: | CN102505115A | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
发明(设计)人: | A·津德尔;M·波佩勒;D·齐明;H·库恩;J·克施鲍默 | 申请(专利权)人: | 欧瑞康太阳能股份公司(特吕巴赫) |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/40 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 谭祐祥 |
地址: | 瑞士特*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 在真空中加工基片的内联式真空加工装置,包括至少一个装载-锁定腔(10),用基本相同的涂覆参数组进行操作的至少两个连续沉积腔(4-7)以及至少一个卸载-锁定腔(10),再加上用于传送、后加工和/或操纵基片通过并位于各个腔室内的装置。一种用于在这样的加工系统内的基片上沉积薄膜的方法,包括步骤:将第一基片引入装载-锁定腔内;降低所述腔室内的压力;将所述基片传送到第一沉积腔内;使用第一组涂覆参数将第一材料层沉积在所述第一基片上;将所述第一基片传送到所述内联式系统随后的第二沉积腔内而不破坏真空并使用基本相同的参数组将另一层所述第一材料层沉积在所述第一基片上。同时进行步骤f)在所述内联式真空系统内根据步骤d)处理第二基片。 | ||
搜索关键词: | 真空 装置 | ||
【主权项】:
一种用于在内联式真空加工系统内以低压CVD(LPCVD)加工在基片上沉积氧化锌薄膜的方法,包括以下步骤:a)将第一基片引入装载‑锁定腔(2)内;b)降低所述腔室内的压力;c)通过红外加热器(28‑33)对所述基片进行加热;d)将所述第一基片传送到第一沉积腔(4)内,并且将所述基片定位在第一被加热的基片固定器(11)上;e)将包括至少水、乙硼烷以及二乙基锌的工作气体经气体喷淋系统(15)定量供给到所述第一沉积腔(4);f)沉积一层氧化锌;g)将所述第一基片传送到所述内联式真空加工系统随后的第二沉积腔(5)内而不破坏真空,并且将所述基片定位在第二被加热的基片固定器(12)上;h)将包括至少水、乙硼烷以及二乙基锌的工作气体经气体喷淋系统(16)定量供给到所述第二沉积腔(5);i)沉积另一层氧化锌;j)将所述第一基片传送到卸载‑锁定腔(10)内;k)从所述系统中取出所述第一基片;其中在步骤c)期间略微地来回移动所述基片。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的