[发明专利]真空涂覆装置有效

专利信息
申请号: 201110373816.5 申请日: 2008-02-29
公开(公告)号: CN102505115A 公开(公告)日: 2012-06-20
发明(设计)人: A·津德尔;M·波佩勒;D·齐明;H·库恩;J·克施鲍默 申请(专利权)人: 欧瑞康太阳能股份公司(特吕巴赫)
主分类号: C23C16/54 分类号: C23C16/54;C23C16/40
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 谭祐祥
地址: 瑞士特*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 在真空中加工基片的内联式真空加工装置,包括至少一个装载-锁定腔(10),用基本相同的涂覆参数组进行操作的至少两个连续沉积腔(4-7)以及至少一个卸载-锁定腔(10),再加上用于传送、后加工和/或操纵基片通过并位于各个腔室内的装置。一种用于在这样的加工系统内的基片上沉积薄膜的方法,包括步骤:将第一基片引入装载-锁定腔内;降低所述腔室内的压力;将所述基片传送到第一沉积腔内;使用第一组涂覆参数将第一材料层沉积在所述第一基片上;将所述第一基片传送到所述内联式系统随后的第二沉积腔内而不破坏真空并使用基本相同的参数组将另一层所述第一材料层沉积在所述第一基片上。同时进行步骤f)在所述内联式真空系统内根据步骤d)处理第二基片。
搜索关键词: 真空 装置
【主权项】:
一种用于在内联式真空加工系统内以低压CVD(LPCVD)加工在基片上沉积氧化锌薄膜的方法,包括以下步骤:a)将第一基片引入装载‑锁定腔(2)内;b)降低所述腔室内的压力;c)通过红外加热器(28‑33)对所述基片进行加热;d)将所述第一基片传送到第一沉积腔(4)内,并且将所述基片定位在第一被加热的基片固定器(11)上;e)将包括至少水、乙硼烷以及二乙基锌的工作气体经气体喷淋系统(15)定量供给到所述第一沉积腔(4);f)沉积一层氧化锌;g)将所述第一基片传送到所述内联式真空加工系统随后的第二沉积腔(5)内而不破坏真空,并且将所述基片定位在第二被加热的基片固定器(12)上;h)将包括至少水、乙硼烷以及二乙基锌的工作气体经气体喷淋系统(16)定量供给到所述第二沉积腔(5);i)沉积另一层氧化锌;j)将所述第一基片传送到卸载‑锁定腔(10)内;k)从所述系统中取出所述第一基片;其中在步骤c)期间略微地来回移动所述基片。
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