[发明专利]一种图形化蓝宝石衬底的制备方法有效
| 申请号: | 201110356968.4 | 申请日: | 2011-11-11 |
| 公开(公告)号: | CN102403420A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
| 发明(设计)人: | 张化宇;汪桂根;崔林;韩杰才 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学深圳研究生院 |
| 主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
| 代理公司: | 深圳市科吉华烽知识产权事务所 44248 | 代理人: | 罗志强 |
| 地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种用于氮化物处延生长的图形化蓝宝石衬底的制备方法,本发明方法先在蓝宝石基片上磁控溅射一层铝膜,然后施涂两层光刻胶膜且下层光刻胶具有更好的光敏感性,经曝光、显影形成光刻胶图形,再磁控溅射第二层铝膜,经溶剂浸泡剥离外层铝膜,最后经低温、高温两步热处理形成具有单晶氧化铝膜的图形化蓝宝石衬底。本发明的制备方法工艺简单易行,即克服了干法刻蚀方法易污染、损伤衬底的问题,也克服了湿法刻蚀方法易造成图形失真的问题。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 图形 蓝宝石 衬底 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种图形化蓝宝石衬底的制备方法,包括如下依次进行的步骤:(1)、在蓝宝石基片的一个面上磁控溅射第一金属铝膜;(2)、在第一金属铝膜上施涂第一光刻胶膜,烘干,再在烘干的第一光刻胶膜上施涂第二光刻胶膜,烘干,然后进行电子束曝光、显影、定影,获得电子束光刻胶图形,其中第一光刻胶比第二光刻胶具有更好的光敏性,使得显影后第一光刻胶膜去除部分的尺寸大于第二光刻胶膜去除部分的尺寸,从而形成贯穿所述第一光刻胶膜和第二光刻胶膜的腔形结构缺口;(3)、在定影后的第二光刻胶膜上溅射第二金属铝膜,同时通过腔形结构缺口溅射到第一金属铝膜上形成金属铝膜凸台;(4)、将第二金属铝膜剥离掉并去除第一光刻胶膜和第二光刻胶膜,在蓝宝石基片上获得包括第一金属铝膜和金属铝膜凸台的图形化金属铝膜;(5)、在400℃~600℃下进行低温热处理,使图形化金属铝膜充分氧化成为图形化多晶Al2O3膜;(6)、最后置于950℃~1250℃下进行高温热处理,使图形化多晶Al2O3膜完全转化为图形化单晶Al2O3膜,即得到图形化蓝宝石衬底。
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