[发明专利]镍硅复合氧化物及其制备方法有效
| 申请号： | 201110324944.0 | 申请日： | 2011-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN103055913A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 刘志成;曹焜;高焕新;杨为民;许云风 | 申请（专利权）人： | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司上海石油化工研究院 |
| 主分类号： | B01J29/00 | 分类号： | B01J29/00 |
| 代理公司： | 上海东方易知识产权事务所 31121 | 代理人： | 沈原 |
| 地址： | 100728 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种镍硅复合氧化物及其制备方法，主要解决现有镍硅复合氧化物镍分散性差的问题。本发明通过采用一种镍硅复合氧化物，其大角X射线衍射谱图中在X射线检测波长λ＝0.15432纳米时会出现镍硅氧化物的特征衍射峰：2θ＝15～25°、25～32°、32～50°、51～55°、58～63°、70～75°，其小角X射线衍射谱图中在2θ＝0.5-5°会出现介孔分子筛的特征衍射峰及其制备方法的技术方案，较好地解决了该问题，可用于高分散镍基催化剂的工业生产中。 | ||
| 搜索关键词： | 复合 氧化物 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种镍硅复合氧化物，其大角X射线衍射谱图中在X射线检测波长：λ＝0.15432纳米时会出现镍硅氧化物的特征衍射峰：2θ＝15～25°、25～32°、32～50°、51～55°、58～63°、70～75°；其小角X射线衍射谱图中在2θ＝0.5‑5°会出现介孔分子筛的特征衍射峰。
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