[发明专利]聚合物、化学增幅负抗蚀剂组合物和图案形成方法有效
| 申请号： | 201110316698.4 | 申请日： | 2011-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN102516453A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 增永惠一;渡边聪;田中启顺 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08F220/36 | 分类号： | C08F220/36;C08F212/32;C08F220/30;C08F232/08;C08F212/14;G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供了包含侧链上具有N，N’-双(烷氧基甲基)四氢嘧啶酮或N，N’-双(羟甲基)四氢嘧啶酮结构的重复单元的聚合物。当使用该聚合物配制化学增幅负抗蚀剂组合物并通过光刻加工时，可以形成具有改善的LER和高分辨率优点的精细抗蚀剂图案。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物 化学 增幅 负抗蚀剂 组合 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.聚合物，其包含至少一种选自由通式(1)和(2)表示的侧链上具有N，N’-双(烷氧基甲基)四氢嘧啶酮或N，N’-双(羟甲基)四氢嘧啶酮结构的重复单元的重复单元，![]()
其中，A是氢、氟、甲基或三氟甲基，R1是氢或单价的直链、支链或环状C1-C6烃基，R2彼此独立地是可以含有氧或卤素的单价的直链、支链或环状C1-C6烃基，a是0到4的整数，且p是0到2的整数。
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