[发明专利]成膜装置和成膜方法

摘要

本发明提供成膜装置和成膜方法。在真空气氛中反复进行多次将多种反应气体按顺序供给到基板上的循环，形成薄膜的成膜装置包括：载置台，设在真空容器内，具有用于载置基板的基板载置区域；多个反应气体供给部，沿真空容器的周向彼此分开地设置，将多种反应气体分别供给到载置在基板载置区域内的基板上；分离区域，设在各处理区域之间，将处理区域彼此的气氛分离；分离气体供给部，设在该分离区域内，向基板载置区域中的真空容器的中央侧和周缘侧分别供给分离气体且周缘侧的分离气体供给量比中央侧多；顶面，在分离区域内在其与载置台之间形成狭窄的空间，使分离气体遍布中央侧与周缘侧之间地从该分离区域流向处理区域侧；真空排气机构；旋转机构。

主权项

一种成膜装置，其在真空气氛中反复进行多次将多种反应气体按顺序供给到基板上的循环，形成薄膜，其特征在于，该成膜装置包括：载置台，其设在真空容器内，具有用于载置基板的基板载置区域；多个反应气体供给部，其沿上述真空容器的周向彼此分开地设置，以将上述多种反应气体分别供给到载置在上述基板载置区域内的基板上；分离区域，其设在各处理区域彼此之间，以将分别被供给上述反应气体的处理区域彼此的气氛分离；分离气体供给部，其以如下方式设在该分离区域内，即，向上述基板载置区域中的真空容器的中央侧和真空容器的周缘侧分别供给分离气体，并且使上述周缘侧的分离气体的供给量大于上述中央侧的分离气体的供给量；顶面，在上述分离区域内在该顶面与上述载置台之间形成狭窄的空间，以使分离气体在上述中央侧与上述周缘侧之间的整个范围内从该分离区域流向处理区域侧；真空排气机构，其用于对上述真空容器内进行真空排气；旋转机构，其用于使上述载置台相对于上述多个反应气体供给部和分离区域旋转。