[发明专利]一种环形均匀气流供粉装置无效

专利信息
申请号: 201110300760.0 申请日: 2011-09-29
公开(公告)号: CN102378461A 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: 王海兴;孙维平;刘小龙 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: H05H1/42 分类号: H05H1/42;B82Y40/00
代理公司: 北京永创新实专利事务所 11121 代理人: 官汉增
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种环形均匀气流供粉装置,属于直流电弧等离子体制备纳米材料技术领域,包括等离子体发生器、原料喷射环、淬冷室、收集室、反向淬冷喷射管和冷却水管;等离子体发生器上设有冷却水入口和冷却水出口,等离子体发生器嵌在原料喷射环的环形栅栏框凹口上,原料喷射环包括外环、切向入口、环形栅栏框和供粉混合腔,外环上均匀设置有切向入口,外环的中心具有中空的环形栅栏框;原料喷射环与淬冷室固定连接;收集室包括收集室上端和收集室下端。本发明的环形栅栏框将原料颗粒注入高温等离子体射流,使原料的分布更加均匀,熔化蒸发更加充分,从而得到质量更高的纳米粉材料。
搜索关键词: 一种 环形 均匀 气流 装置
【主权项】:
一种环形均匀气流供粉装置,其特征在于:包括等离子体发生器、淬冷气体输送管、原料喷射环、淬冷室、收集室和冷却水管;等离子体发生器嵌在原料喷射环的环形栅栏框的中空凹口内,原料喷射环通过螺栓与淬冷室连接;原料喷射环包括外环、切向入口、环形栅栏框和供粉混合腔,原料喷射环的外环为圆环形结构,外环上均匀设置有切向入口,外环的中心具有中空的环形栅栏框,供粉混合腔为环形栅栏框的栅栏与原料喷射环外环的内壁之间的空腔,使入射材料粉末在各个方向均匀分布;收集室包括收集室上端和收集室下端,收集室上端的上端通过螺纹与淬冷室联接,下端开口;收集室下端圆盘的中间设有淬冷气体输送管,与等离子体发生器对向共轴布置,淬冷气体通过淬冷气体输送管送管进入淬冷室;淬冷室和收集室上端外壁设有冷却水管道。
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