[发明专利]一种环形均匀气流供粉装置

权利要求书

1.一种环形均匀气流供粉装置，其特征在于：包括等离子体发生器、淬冷气体输送管、原料喷射环、淬冷室、收集室和冷却水管；

等离子体发生器嵌在原料喷射环的环形栅栏框的中空凹口内，原料喷射环通过螺栓与淬冷室连接；

原料喷射环包括外环、切向入口、环形栅栏框和供粉混合腔，原料喷射环的外环为圆环形结构，外环上均匀设置有切向入口，外环的中心具有中空的环形栅栏框，供粉混合腔为环形栅栏框的栅栏与原料喷射环外环的内壁之间的空腔，使入射材料粉末在各个方向均匀分布；

收集室包括收集室上端和收集室下端，收集室上端的上端通过螺纹与淬冷室联接，下端开口；收集室下端圆盘的中间设有淬冷气体输送管，与等离子体发生器对向共轴布置，淬冷气体通过淬冷气体输送管送管进入淬冷室；淬冷室和收集室上端外壁设有冷却水管道。

2.根据权利要求1所述的一种环形均匀气流供粉装置，其特征在于：所述的等离子体发生器上设有冷却水入口和冷却水出口，冷却水通过等离子体发生器的冷却水入口进入，从冷却水出口流出。

3.根据权利要求1所述的一种环形均匀气流供粉装置，其特征在于：所述的切向入口的个数为2-45个，入口方向与法向成45度夹角。

4.根据权利要求1所述的一种环形均匀气流供粉装置，其特征在于：所述的形栅栏框的中空的内径为环形栅栏框的自身圆环宽度的1/3～2/3，环形栅栏框由四周具有多个向外辐射状均匀间隙分布的16个以上矩形栅栏组成的，每个矩形栅栏的径向长度为环形栅栏框圆环宽度的1/3，宽度为环形栅栏框的内径的1/30。

5.根据权利要求1所述的一种环形均匀气流供粉装置，其特征在于：所述的收集室下端为带环形挡板的圆盘，环形挡板的半径比收集室上端的半径小1-5毫米，高度约为收集室上端内壁高度的60％-80％。

6.根据权利要求1所述的一种环形均匀气流供粉装置，其特征在于：所述的淬冷气体输送管出口与等离子体发生器的出口之间的距离可以调节，以调整滞止面的位置，延长原料颗粒在等离子体中的停留时间。

7.根据权利要求1所述的一种环形均匀气流供粉装置，其特征在于：所述的淬冷气体输送管的淬冷气体与等离子体发生器的等离子体射流流量根据需要进行调节。

8.根据权利要求1所述的一种环形均匀气流供粉装置，其特征在于：所述的收集室下端能够卸下。