[发明专利]化学机械抛光设备及方法无效
| 申请号： | 201110288313.8 | 申请日： | 2011-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN102773789A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | 刘立中;陈逸男;刘献文 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/02 | 分类号： | B24B37/02 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光设备，包含一壳体；一平台设置在壳体中；以及一抛光头，用来固定并旋转一晶片。平台由一中央圆形部分和一周围环形部分所组成，且具有一间隙位在二者之间。一第一抛光垫设置在中央圆形部分上。一第二抛光垫设置在周围环形部分上。在抛光工艺中，抛光头在第一抛光垫以及第二抛光垫之间旋转，如此使晶片的一环形边缘区域直接接触第二抛光垫。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光设备，特征在于包含：壳体；平台，设置在壳体中，所述平台由一个中央圆形部分及一个周围环形部分组成，所述周围环形部分环绕所述中央圆形部分，且周围环形部分与中央圆形部分之间具有间隙；研磨头，用来固定及旋转一晶片；第一研磨垫，设置在中央圆形部分上；和第二研磨垫，设置在周围环形部分上。
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