[发明专利]化学机械抛光设备及方法无效
| 申请号： | 201110288313.8 | 申请日： | 2011-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN102773789A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | 刘立中;陈逸男;刘献文 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/02 | 分类号： | B24B37/02 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 设备 方法 | ||
1.一种化学机械抛光设备，特征在于包含：
壳体；
平台，设置在壳体中，所述平台由一个中央圆形部分及一个周围环形部分组成，所述周围环形部分环绕所述中央圆形部分，且周围环形部分与中央圆形部分之间具有间隙；
研磨头，用来固定及旋转一晶片；
第一研磨垫，设置在中央圆形部分上；和
第二研磨垫，设置在周围环形部分上。
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，特征在于，更包含：
第一喷嘴，用来提供第一浆料在所述第一研磨垫之上；和
第二喷嘴，用来提供第二浆料在所述第二研磨垫之上。
3.根据权利要求2所述的化学机械抛光设备，特征在于第一浆料和第二浆料用不同的流速提供。
4.根据权利要求2所述的化学机械抛光设备，特征在于第一浆料和第二浆料具有不同的浓度设定。
5.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，特征在于间隙宽度大约在0.5和5毫米之间。
6.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，特征在于中央圆形部分和周围环形部分都朝同一个方向旋转。
7.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，特征在于中央圆形部分和周围环形部分以不同的转速旋转。
8.根据权利要求7所述的化学机械抛光设备，特征在于周围环形部分的转速比中央圆形部分的转速慢。
9.根据权利要求1所述的化学机械抛光设备，特征在于在研磨时，研磨头在第一以和第二研磨垫之间旋转，且晶片的一环形边缘区域直接接触第二研磨垫。
10.根据权利要求9所述的化学机械抛光设备，特征在于所述的环形边缘区域的表面积实质上占晶片全部面积三分之一。
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