[发明专利]一种在细长管道内壁镀制薄膜的方法无效

专利信息
申请号: 201110283626.4 申请日: 2011-09-22
公开(公告)号: CN102337520A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: 熊玉卿;任妮;王多书;王济洲;冯煜东;刘恒;马占吉 申请(专利权)人: 中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/20;C23C16/40;C23C16/34
代理公司: 甘肃省知识产权事务中心 62100 代理人: 张英荷
地址: 730000*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开了一种在细长管道内壁镀制薄膜的方法,属于真空镀膜技术领域。该方法是将需镀膜的管道置于反应室内,将气相前驱体以脉冲形式交替通入反应器,第一种前躯体到达管道内,以化学吸附在管道内壁形成一个单吸附层;再通入第二种前驱体,与第一种前驱体反应,在管道内壁生成一个单原子层的薄膜。在每个前驱体脉冲之间需要用惰性气体对反应器进行清洗,再重复吸附和反应过程,逐层生成薄膜。本方法通过气体吸附和反应相结合的方式,实现了在细长管道内壁的镀制薄膜,解决目前无法采用真空镀膜方法在细长管道内壁镀制薄膜的难题,可在不同的材料表面镀制金属、氧化物、氮化物、硫化物、氟化物等各类薄膜材料,满足不同需求。
搜索关键词: 一种 细长 管道 内壁 薄膜 方法
【主权项】:
一种在细长管道内壁镀制薄膜的方法,包括以下工艺步骤:(1)将需镀膜的细长管道置于与管道相适配的反应室内,将反应室抽真空;(2)以脉冲形式向反应室内通入第一种气相前驱体A,在需镀膜的管道内表面以化学吸附形成一个单吸附层;(3)向反应室内通入惰性气体,将未吸附的多余前驱体A排除;(4)以脉冲形式向反应室内通入第二种气相前驱体B,与前驱体A反应,在需镀膜的管道内表面生成一个单原子层;(5)向反应室内通入惰性气体,将未反应的多余前驱体B排除;(6)重复上述步骤(2)~(5),每重复一次,生成一个单原子层,直到膜层厚度满足要求为止。
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