[发明专利]一种集成电路缺陷的光学检测方法和装置有效

专利信息
申请号: 201110283462.5 申请日: 2011-09-22
公开(公告)号: CN103018202A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 陈鲁 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G01N21/45 分类号: G01N21/45;G01N21/956
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 逯长明;王宝筠
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例公开了一种集成电路缺陷的光学检测方法和装置,其中,所述方法包括:在Fourier平面设置螺旋相位片,通过所述螺旋相位片,接收集成电路上缺陷的散射光和反射光,其中,所述散射光经过所述螺旋相位片,在图像接收平面形成圆圈形状图像;所述反射光经过所述螺旋相位片的中心,在图像接收平面形成同相位均匀背景光;所述圆圈形状图像与同相位均匀背景光在图像接收平面发生相位干涉,形成包含亮斑和暗斑的光斑图像;根据所述光斑图像,确定所述集成电路上缺陷的类别。通过本发明实施例,能够提高集成电路中缺陷检测的精度。
搜索关键词: 一种 集成电路 缺陷 光学 检测 方法 装置
【主权项】:
一种集成电路缺陷的光学检测方法,其特征在于,在Fourier平面设置螺旋相位片,包括:通过所述螺旋相位片,接收集成电路上缺陷的散射光和反射光,其中,所述散射光经过所述螺旋相位片,在图像接收平面形成圆圈形状图像;所述反射光经过所述螺旋相位片的中心,在图像接收平面形成同相位均匀背景光;所述圆圈形状图像与同相位均匀背景光在图像接收平面发生相位干涉,形成包含亮斑和暗斑的光斑图像;根据所述光斑图像,确定所述集成电路上缺陷的类别。
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