[发明专利]一种集成电路缺陷的光学检测方法和装置有效
申请号: | 201110283462.5 | 申请日: | 2011-09-22 |
公开(公告)号: | CN103018202A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 陈鲁 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G01N21/45 | 分类号: | G01N21/45;G01N21/956 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯长明;王宝筠 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 集成电路 缺陷 光学 检测 方法 装置 | ||
1.一种集成电路缺陷的光学检测方法,其特征在于,在Fourier平面设置螺旋相位片,包括:
通过所述螺旋相位片,接收集成电路上缺陷的散射光和反射光,其中,所述散射光经过所述螺旋相位片,在图像接收平面形成圆圈形状图像;所述反射光经过所述螺旋相位片的中心,在图像接收平面形成同相位均匀背景光;所述圆圈形状图像与同相位均匀背景光在图像接收平面发生相位干涉,形成包含亮斑和暗斑的光斑图像;
根据所述光斑图像,确定所述集成电路上缺陷的类别。
2.根据权利要求1所述的集成电路缺陷的光学检测方法,其特征在于,所述螺旋相位片的螺旋相位范围为(0,2π)。
3.根据权利要求1所述的集成电路缺陷的光学检测方法,其特征在于,所述方法还包括:调节所述缺陷的散射光和反射光的光强相当。
4.根据权利要求3所述的集成电路缺陷的光学检测方法,其特征在于,所述调节所述缺陷的散射光和反射光的光强相当,包括:
在所述缺陷的反射光进入所述螺旋相位片之前的光路上设置可调节光衰减片,通过所述可调节光衰减片调节所述缺陷的散射光和反射光的光强相当。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的集成电路缺陷的光学检测方法,其特征在于,所述根据所述光斑图像,确定所述集成电路上缺陷的类别,包括:
根据所述光斑图像中亮斑和暗斑的分布属性,确定所述集成电路上缺陷的类别。
6.一种集成电路缺陷的光学检测装置,其特征在于,包括:沿光路设置的光信号采集单元、螺旋相位片、图像接收单元及缺陷确定单元;所述螺旋相位片设置在Fourier平面;所述光信号采集单元采集集成电路上缺陷的散射光和反射光,所述散射光和反射光通过所述螺旋相位片在图像接收单元中的接收平面形成圆圈形状图像;其中,所述反射光经过所述螺旋相位片的中心,在图像接收平面形成同相位均匀背景光;所述圆圈形状图像与同相位均匀背景光在图像接收平面发生相位干涉,形成包含亮斑和暗斑的光斑图像;所述缺陷确定单元根据所述光斑图像,确定所述集成电路上缺陷的类别。
7.根据权利要求6所述的集成电路缺陷的光学检测装置,其特征在于,所述螺旋相位片的螺旋相位范围为(0,2π)。
8.根据权利要求6所述的集成电路缺陷的光学检测装置,其特征在于,还包括:
光强调节单元,用于调节所述缺陷的散射光和反射光的光强相当。
9.根据权利要求8所述的集成电路缺陷的光学检测装置,其特征在于,所述光强调节单元包括:设置在所述缺陷的反射光进入所述螺旋相位片之前的光路上的可调节光衰减片。
10.根据权利要求6-9中任一项所述的集成电路缺陷的光学检测装置,其特征在于,所述缺陷确定单元根据所述光斑图像中亮斑和暗斑的分布属性,确定所述集成电路上缺陷的类别。
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