[发明专利]源偏振的优化有效
| 申请号： | 201110281510.7 | 申请日： | 2011-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN102411263A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 陈洛祁 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及源偏振的优化。本发明公开了一种光刻模拟过程，其中通过一个或更多个变量参数表示在照射源的光瞳面处的预选组源点中的每个源点，其中所述一个或更多个变量参数中的至少一些表征在源点处的偏振状态。基于所计算的代价函数相对于一个或更多个变量参数的梯度，迭代地重新配置照射源中的预选组源点和设计布局的表示中的一个或两个，直到获得期望的光刻响应为止，其中代价函数包括使用所述预选组源点投影的设计布局的表示的空间图像强度。还描述了用于执行源偏振变化的物理硬件。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 优化 | ||
【主权项】：
一种用于改进光刻过程模拟的计算机执行方法，包括下列步骤：通过一个或更多个变量参数表示在照射源的光瞳面处的预选组源点中的每个源点，其中所述一个或更多个变量参数中的至少一些变量参数表征在所述源点处的偏振状态；形成代价函数，所述代价函数包括使用所述预选组源点投影的设计布局的表示的空间图像强度；计算所述代价函数相对于所述一个或更多个变量参数中的所述至少一些变量参数的梯度；基于所计算的梯度迭代地重新配置所述照射源中的所述预选组源点和所述设计布局的所述表示中的一者或两者，直到获得期望的光刻响应为止。
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