[发明专利]源偏振的优化

权利要求书

1.一种用于改进光刻过程模拟的计算机执行方法，包括下列步骤：

通过一个或更多个变量参数表示在照射源的光瞳面处的预选组源点中的每个源点，其中所述一个或更多个变量参数中的至少一些变量参数表征在所述源点处的偏振状态；

形成代价函数，所述代价函数包括使用所述预选组源点投影的设计布局的表示的空间图像强度；

计算所述代价函数相对于所述一个或更多个变量参数中的所述至少一些变量参数的梯度；

基于所计算的梯度迭代地重新配置所述照射源中的所述预选组源点和所述设计布局的所述表示中的一者或两者，直到获得期望的光刻响应为止。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或更多个变量参数中的至少一些变量参数还表征在所述源点处的强度。

3.根据权利要求1所述的方法，其中在所述照射源中的所述预选组源点和所述设计布局的所述表示被针对于光刻过程的预定的光刻参数进行优化。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或更多个变量参数被选择以在特定源点处产生可定制的偏振条件，其中所述可定制的偏振条件包括多种偏振状态的混合。

5.根据权利要求1所述的方法，其中在特定源点处的可能的偏振状态的与物理硬件相关的限制在模拟中以一组约束条件表征。

6.根据权利要求1所述的方法，其中根据下列参数用公式表示所述代价函数：在给定过程窗口上的边缘定位误差、反归一化图像对数斜率、图像斜率的轮廓积分、边缘图像值以及图像对数斜率值。

7.一种用于改进光刻过程的方法，包括步骤：

在光刻过程的模拟中，通过一个或更多个变量参数表示在照射源的光瞳面处的预选组源点中的每个源点，其中所述一个或更多个变量参数中的至少一些变量参数表征在所述源点处的偏振状态；

基于代价函数的相对于所述一个或更多个变量参数中的所述至少一些变量参数所计算的梯度，迭代地重新配置在所述照射源中的所述预选组源点和所述设计布局的表示中的一者或两者，直到获得期望的光刻响应为止，其中所述代价函数包括使用所述预选组源点投影的所述设计布局的表示的空间图像强度。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述一个或更多个变量参数中的至少一些变量参数还表征在所述源点处的强度。

9.根据权利要求7所述的方法，其中在所述照射源中的所述预选组源点和所述设计布局的所述表示被针对于光刻过程的预定的光刻参数进行优化。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述光刻过程的所述光刻参数包括下列参数中的一个或更多个：临界尺寸一致性、过程窗口、过程窗口的尺寸、MEEF、最大NILS以及散焦时的最大NILS。

11.根据权利要求7所述的方法，其中所述一个或更多个变量参数被选择以在特定源点处产生可定制的偏振条件，其中所述可定制的偏振条件包括多种偏振状态的混合。

12.根据权利要求7所述的方法，其中在特定源点处的可能的偏振状态的与物理硬件相关的限制在模拟中以一组约束条件表征。

13.根据权利要求12所述的方法，其中与物理硬件相关的限制包括下列内容中的一者或两者：能够通过偏振控制器装置以物理方式产生的不同的偏振状态的数量；和对将光朝向所述特定源点引导的一个或更多个光学元件的位置的依赖性。

14.根据权利要求7所述的方法，其中根据下列参数用公式表示所述代价函数：在给定过程窗口上的边缘定位误差、反归一化图像对数斜率、图像斜率的轮廓积分、边缘图像值以及图像对数斜率值。

15.根据权利要求7所述的方法，其中所述方法还包括步骤：

在迭代过程中，在将所述设计布局的所述表示保持恒定的同时对所述照射源的偏振进行优化。

16.一种用于改进光刻过程模拟的计算机执行方法，包括下列步骤：

通过一个或更多个变量参数表示在照射源的光瞳面处的预选组源点中的每个源点，其中所述一个或更多个变量参数中的至少一些变量参数表征在所述源点处的偏振状态和强度；

形成代价函数，所述代价函数包括使用所述预选组源点投影的设计布局的表示的空间图像强度；

计算所述代价函数相对于所述一个或更多个变量参数中的所述至少一些变量参数的梯度；

基于所计算的梯度迭代地重新配置所述照射源中的所述预选组源点和所述设计布局的所述表示中的一者或两者，直到获得期望的光刻响应为止。