[发明专利]金属筒内壁的耐磨层离子真空镀膜方法有效

专利信息
申请号: 201110275903.7 申请日: 2011-09-19
公开(公告)号: CN102321870A 公开(公告)日: 2012-01-18
发明(设计)人: 王敬达 申请(专利权)人: 王敬达
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人: 陈建和
地址: 214100 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 金属筒内壁的耐磨层离子真空镀膜方法,将金属筒两端部设有绝缘密封隔离的金属筒端盖,在端盖上设有抽真空管和加热电源输入端口使金属筒内满足真空和镀膜时的温度条件,筒风设有施加偏压电极的辅助阳极,空心或实心柱状靶材位于筒的中心、靶材上施加弧源电源,金属筒接弧源电源另一极,金属筒端盖上设有可旋转或摆动的辅助阳极。设有旋转密封装置,在靶材的两端均施加独立工作的弧源电源。本发明可以制备成移动式、便携式设备对各种需要施底内部耐磨层的管进行施镀,尤其用于大口径的管壁施镀。
搜索关键词: 金属 内壁 耐磨 离子 真空镀膜 方法
【主权项】:
金属筒内壁的耐磨层离子真空镀膜方法,其特征是将金属筒两端部设有绝缘密封隔离的金属筒端盖,在端盖上设有抽真空管和加热电源输入端口使金属筒内满足真空和镀膜时的温度条件,筒风设有施加偏压电极的辅助阳极,空心或实心柱状靶材位于筒的中心、靶材上施加弧源电源,金属筒接弧源电源另一极,金属筒端盖上设有可旋转或摆动的辅助阳极。
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