[发明专利]金属筒内壁的耐磨层离子真空镀膜方法

权利要求书

1.金属筒内壁的耐磨层离子真空镀膜方法，其特征是将金属筒两端部设有绝缘密封隔离的金属筒端盖，在端盖上设有抽真空管和加热电源输入端口使金属筒内满足真空和镀膜时的温度条件，筒风设有施加偏压电极的辅助阳极，空心或实心柱状靶材位于筒的中心、靶材上施加弧源电源，金属筒接弧源电源另一极，金属筒端盖上设有可旋转或摆动的辅助阳极。

2.根据权利要求1所述的金属筒内壁的耐磨层离子真空镀膜方法，其特征是设有旋转密封装置，绝缘支架及屏蔽罩、辅助阳极、旋转式换向器接在靶管构成的旋转轴上，旋转轴端设有旋转密封；设有减速电机传动齿轮副装在旋转轴端驱动旋转轴。

3.根据权利要求1或2所述的金属筒内壁的耐磨层离子真空镀膜方法，其特征是靶材的两端均施加独立工作的弧源电源，每个弧源电源分别进行电压高低的控制，即弧源电源电压高低的变化分别施加于靶柱的两端，筒内柱状靶材二端分别由弧源施加电源提供电压引弧。

4.根据权利要求1或2所述的金属筒内壁的耐磨层离子真空镀膜方法，其特征是镀钛金、玫瑰金和黑钛的镀温（℃）分别是90-120、110=130、140-160。

5.根据权利要求1或3所述的金属筒内壁的耐磨层离子真空镀膜方法，其特征是在一个或两个金属筒端盖上均设有真空抽吸孔，或在一个或两个金属筒端盖上均设有工作气体的输入孔。

6.根据权利要求1或2所述的金属筒内壁的耐磨层离子真空镀膜方法，其特征是金属筒两端部设有绝缘密封隔离的二个端盖，在金属筒构成工作室，金属筒内设有启动电弧的气缸点弧器、金属筒接真空抽气口、真空计、测温孔，在端盖中央设靶柱，设有弧源电源，弧源电源连接靶柱的两端，筒内设有辅助阳极及电源。

7.根据权利要求1或2所述的金属筒内壁的耐磨层离子真空镀膜方法，其特征是靶柱为中空靶管，靶管表面设有工作气体出气孔或通气孔。

8.根据权利要求1或2所述的金属筒内壁的耐磨层离子真空镀膜方法，其特征是将加热器装在筒内，或在金属筒外壁包裹加热装置加热。

9.根据权利要求1或2所述的金属筒内壁的耐磨层离子真空镀膜方法，其特征是包括靶材或空管靶材的两端均可施加独立工作的弧源电源，每个弧源电源分别进行电压高低的控制，即弧源电源电压高低的的变化分别施加于靶材的两端，金属筒端盖上设有电机驱动的旋转臂控制可旋转的辅助阳极，并设有辅助阳极旋转控制器辅助阳极进行旋转控制，速度在每分钟1转至半转。

10.根据权利要求1或2所述的金属筒内壁的耐磨层离子真空镀膜方法，其特征是绝缘密封隔离垫的金属筒端盖装在金属筒两端，通过筒的端部外侧装有夹具进行，或通过设有金属筒两端盖的收紧螺杆螺母。