[发明专利]一种基于非规整膜层结构的宽光谱金属介质膜光栅无效
| 申请号： | 201110259841.0 | 申请日： | 2011-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN102313920A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 孔伟金;云茂金;张文飞;滕冰;刘均海;孙欣;陈沙鸥 | 申请（专利权）人： | 青岛大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B1/10;B32B15/04;B32B9/04 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更岩 |
| 地址： | 266071 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 一种基于非规整膜层结构的宽光谱金属介质膜光栅，涉及一种用于1053纳米飞秒激光脉冲放大系统的宽光谱金属介质膜光栅。本发明的高反射膜的厚度采用非规整结构，当光栅的周期为1480线/mm，刻蚀深度为400纳米，剩余膜层的厚度为200纳米，占空比为0.2，入射角度为58°时，本发明的宽带金属介质膜光栅对于中心波长为1053纳米的TE波，-1级衍射效率在980nm-1140nm范围优于97％的有效工作带宽达160nm。本发明光栅可由光学全息和离子束刻蚀工艺加工而成，本发明对于提高啁啾脉冲放大系统性能具有重要的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 规整 结构 光谱 金属 介质 光栅 | ||
【主权项】：
一种基于非规整膜层结构的宽光谱金属介质膜光栅，其特征在于：该宽光谱金属介质膜光栅从下至上依次包括基底(7)、金属Cr膜(6)、金属Ag膜(5)、TiO2介质膜(4)、SiO2介质膜(3)、剩余膜层(2)和表面光栅结构(1)；所述的金属Ag膜(5)、TiO2介质膜(4)和SiO2介质膜(3)组成高反射膜(8)；所述的剩余膜层(2)和表面光栅结构均为HfO2材料；光栅的周期为1480线/mm，刻蚀深度为400纳米，剩余膜层的厚度为200纳米，占空比为0.2，入射角度为58°，入射光的偏振态为TE模式。
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