[发明专利]一种基于非规整膜层结构的宽光谱金属介质膜光栅无效
| 申请号： | 201110259841.0 | 申请日： | 2011-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN102313920A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 孔伟金;云茂金;张文飞;滕冰;刘均海;孙欣;陈沙鸥 | 申请（专利权）人： | 青岛大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B1/10;B32B15/04;B32B9/04 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更岩 |
| 地址： | 266071 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 规整 结构 光谱 金属 介质 光栅 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于非规整膜层结构的宽光谱金属介质膜光栅，其特征在于：该宽光谱金属介质膜光栅从下至上依次包括基底(7)、金属Cr膜(6)、金属Ag膜(5)、TiO2介质膜(4)、SiO2介质膜(3)、剩余膜层(2)和表面光栅结构(1)；所述的金属Ag膜(5)、TiO2介质膜(4)和SiO2介质膜(3)组成高反射膜(8)；所述的剩余膜层(2)和表面光栅结构均为HfO2材料；光栅的周期为1480线/mm，刻蚀深度为400纳米，剩余膜层的厚度为200纳米，占空比为0.2，入射角度为58°，入射光的偏振态为TE模式。
2.按照权利要求1所述的一种基于非规整膜层结构的宽光谱金属介质膜光栅，其特征在于：所述的高反射膜采用非规整结构，其结构为G/CrAgTL，其中G是基底，T代表TiO2介质膜，L代表SiO2介质膜，金属Cr膜的厚度为67nm，金属Ag膜的厚度为87.5nm，TiO2介质膜的厚度为171nm，SiO2介质膜的厚度为111nm。
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