[发明专利]一种用于飞秒啁啾脉冲放大系统的宽光谱金属介质膜光栅无效
| 申请号： | 201110259712.1 | 申请日： | 2011-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN102313919A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 孔伟金;王淑华;云茂金;刘均海;滕冰;王书浩;陈沙鸥 | 申请（专利权）人： | 青岛大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更岩 |
| 地址： | 266071 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 一种用于飞秒啁啾脉冲放大系统的宽光谱金属介质膜光栅，该光栅包括基底、金属Ag膜、介质反射膜、剩余膜层以及表面光栅结构；介质反射膜由HfO2介质和SiO2介质交替沉积而成；金属Ag膜和介质反射膜组成高反射膜；所述的表面光栅结构和介质反射膜之间设有剩余膜层。当光栅的周期为550纳米、刻蚀深度为240纳米、剩余膜层厚度为10纳米、占空比为0.26和入射角度为53°时，本发明对于中心波长为800纳米的TE波，-1级衍射效率在744-874nm范围优于97％，有效工作带宽达130纳米。本发明的宽光谱金属介质膜光栅对于提高啁啾脉冲放大系统性能具有重要的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 啁啾 脉冲 放大 系统 光谱 金属 介质 光栅 | ||
【主权项】：
一种用于飞秒啁啾脉冲放大系统的宽光谱金属介质膜光栅，其特征在于：该宽光谱金属介质膜光栅包括基底(1)、金属Ag膜(2)、介质反射膜(7)和表面光栅结构(6)；所述的介质反射膜由HfO2介质膜(3)和SiO2介质膜(4)交替沉积而成；金属Ag膜(2)和介质反射膜(7)组成高反射膜(8)；所述的表面光栅结构和介质反射膜之间设有剩余膜层(5)，剩余膜层的折射率与表面光栅结构的折射率相同；所述金属介质膜光栅的周期为550纳米，刻蚀深度为240纳米，剩余膜层的厚度为10纳米，占空比为0.26，入射角度为53°。
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