[发明专利]一种用于飞秒啁啾脉冲放大系统的宽光谱金属介质膜光栅无效
| 申请号： | 201110259712.1 | 申请日： | 2011-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN102313919A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 孔伟金;王淑华;云茂金;刘均海;滕冰;王书浩;陈沙鸥 | 申请（专利权）人： | 青岛大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B1/10 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更岩 |
| 地址： | 266071 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 啁啾 脉冲 放大 系统 光谱 金属 介质 光栅 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于飞秒啁啾脉冲放大系统的宽光谱金属介质膜光栅，其特征在于：该宽光谱金属介质膜光栅包括基底(1)、金属Ag膜(2)、介质反射膜(7)和表面光栅结构(6)；所述的介质反射膜由HfO2介质膜(3)和SiO2介质膜(4)交替沉积而成；金属Ag膜(2)和介质反射膜(7)组成高反射膜(8)；所述的表面光栅结构和介质反射膜之间设有剩余膜层(5)，剩余膜层的折射率与表面光栅结构的折射率相同；所述金属介质膜光栅的周期为550纳米，刻蚀深度为240纳米，剩余膜层的厚度为10纳米，占空比为0.26，入射角度为53°。
2.按照权利要求1所述的一种用于飞秒啁啾脉冲放大系统的宽光谱金属介质膜光栅，其特征在于：所述介质反射膜的结构为(L1.5H)2，其中H和L分别代表光学厚度为参考波长四分之一的HfO2和SiO2介质材料，参考波长为720纳米。
3.按照权利要求1或2所述的一种用于飞秒啁啾脉冲放大系统的宽光谱金属介质膜光栅，其特征在于：所述的表面光栅结构和剩余膜层的材料为HfO2。
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