[发明专利]半导体装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110254492.3 申请日: 2011-08-31
公开(公告)号: CN102403357A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 木村淑;角保人;大田浩史;入船裕行 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/336
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明半导体装置具备第一导电型的第一半导体层(1)、第一漂移层(5)、第二漂移层(8)、第一电极(24)、和第二电极(25),具有在第一电极(24)与第二电极(25)之间流过电流的元件部、和其外周的末端部。第一漂移层(5)具有在元件部中在第一方向上交替地配置的第1第一导电型柱层(3)和第1第二导电型柱层(4),在末端部中具有第一外延层(2)。第二漂移层(8)在第二外延层(8)中的元件部和末端部中,具有沿着第一方向离开配置的第2及第3第二导电型柱层(7、7a),将被它们分别所夹的第二外延层(8)分别作为第2及第3第一导电型柱层(6、6a)。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
一种功率用半导体装置,具有在对置的第一电极与第二电极之间沿垂直方向流过电流的元件部、和在与上述垂直方向正交的水平面内包围上述元件部的末端部,其特征在于,具备:第一导电型的第一半导体层;第一漂移层,具有形成在上述第一半导体层上且第一导电型杂质的浓度比上述第一半导体层低的第一导电型的第一外延层、及仅在上述第一外延层中的上述元件部中沿平行于上述水平面的第一方向交替地反复配置且第一导电型杂质的浓度比上述第一外延层高的多个第1第一导电型柱层和多个第1第二导电型柱层;第二漂移层,具有形成在上述第一漂移层上且第一导电型杂质的浓度比上述第一外延层高的第一导电型的第二外延层、及在上述第二外延层中的上述元件部中沿着上述第一方向离开配置且与上述第1第二导电型柱层连接的多个第2第二导电型柱层、及由相邻的上述第2第二导电型柱层所夹持且由上述第二外延层构成且与上述第1第一导电型柱层连接的多个第2第一导电型柱层、及在上述第二外延层中的上述末端部中沿着上述第一方向离开配置且配置在上述第一外延层上的多个第3第二导电型柱层、及由相邻的上述第3第二导电型柱层所夹持且由上述第二外延层构成且配置在上述第一外延层上的多个第3第一导电型柱层;多个第二导电型基底层,在上述元件部中,有选择地形成在上述第二漂移层的表面,与上述第2第二导电型柱层电连接;第一导电型的源极层,有选择地形成在上述第二导电型基底层的表面;以及栅极电极,隔着栅极绝缘膜形成在上述源极层、上述基底层、上述第2第一导电型柱层之上;上述第一电极电连接在上述第一半导体层的与上述第一漂移层相反的一侧的表面上;上述第二电极与上述源极层及上述基底层电连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110254492.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top