[发明专利]曝光装置无效
| 申请号： | 201110240580.8 | 申请日： | 2011-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN102385256A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 鹫山裕之;奥山隆志 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;马建军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种曝光装置，能够进行没有曝光不均的重叠曝光，形成高精度的图案。在使曝光区向主扫描方向倾斜的状态下执行重叠曝光动作时，伴随DMD的有效区域的设定来计算曝光间距。由于能够调整曝光间距，因而即使产生曝光条件、曝光装置机构的问题等，也能够成为使曝光点分布均匀分散的分布状态，能够形成没有曝光不均的高精度的图案。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其特征在于，该曝光装置具有：光调制元件阵列，其是二维排列多个光调制元件而成的；扫描单元，其使由所述光调制元件阵列形成的曝光区在相对于主扫描方向倾斜预定角度的状态下，沿着主扫描方向相对移动；曝光动作处理单元，其根据曝光数据，按照预定的曝光间距控制所述多个光调制元件，关于主扫描方向、副扫描方向执行重叠曝光；以及曝光间距调整单元，其根据所述光调制元件阵列的有效区域，计算使针对曝光对象区域的曝光命中位置均匀分散的曝光间距。
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