[发明专利]曝光装置

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，该曝光装置具有：

光调制元件阵列，其是二维排列多个光调制元件而成的；

扫描单元，其使由所述光调制元件阵列形成的曝光区在相对于主扫描方向倾斜预定角度的状态下，沿着主扫描方向相对移动；

曝光动作处理单元，其根据曝光数据，按照预定的曝光间距控制所述多个光调制元件，关于主扫描方向、副扫描方向执行重叠曝光；以及

曝光间距调整单元，其根据所述光调制元件阵列的有效区域，计算使针对曝光对象区域的曝光命中位置均匀分散的曝光间距。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光间距调整单元将与所述有效区域相当的有效曝光区的主扫描方向长度除以曝光累计次数，由此计算曝光间距。

3.一种曝光间距调整装置，其特征在于，该曝光间距调整装置具有：

设定单元，其设定二维排列多个光调制元件而成的光调制元件阵列的有效区域；以及

曝光间距计算单元，其根据所述光调制元件阵列的有效区域，计算使针对曝光对象区域的曝光命中位置均匀分散的曝光间距。

4.一种曝光间距调整方法，其特征在于，在该曝光间距调整方法中，

设定二维排列多个光调制元件而成的光调制元件阵列的有效区域，

根据所述光调制元件阵列的有效区域，计算使针对曝光对象区域的曝光命中位置均匀分散的曝光间距。

5.一种程序，其特征在于，该程序使曝光装置作为以下单元发挥作用：

设定单元，其设定二维排列多个光调制元件而成的光调制元件阵列的有效区域；以及

曝光间距计算单元，其根据所述光调制元件阵列的有效区域，计算使针对曝光对象区域的曝光命中位置均匀分散的曝光间距。