[发明专利]化学气相沉积装置

摘要

本发明公开了一种化学气相沉积装置。该化学气相沉积装置包括：处理室，被配置为用来界定反应空间；背板，放置于所述反应空间上方，并且在该背板的中部具有气体入口；气体扩散构件，设置在该气体入口的下方并且与该气体入口分离，该气体扩散构件被配置为用来扩散通过该气体入口提供的工艺气体，并且该气体扩散元件通过第一耦合构件与该背板耦合；喷头，放置于所述背板和气体扩散构件的下方并且与所述背板和气体扩散构件分离，在该喷头中通过打孔形成有多个喷孔，该喷头的中部通过第二耦合构件与该气体扩散构件耦合；以及基座，设置在该喷头的下方并且与该喷头分离，该基座用于支撑衬底。

主权项

一种化学气相沉积装置，包括：处理室，被配置为用来界定反应空间；背板，放置于所述反应空间上方，并且在该背板的中部具有气体入口；气体扩散构件，设置在该气体入口的下方并且与该气体入口分离，该气体扩散构件被配置为用来扩散通过该气体入口提供的工艺气体，并且该气体扩散元件通过第一耦合构件与该背板耦合；喷头，放置于所述背板和气体扩散构件的下方并且与所述背板和气体扩散构件分离，在该喷头中通过打孔形成有多个喷孔，该喷头的中部通过第二耦合构件与该气体扩散构件耦合；以及基座，设置在该喷头的下方并且与该喷头分离，该基座用于支撑衬底。