[发明专利]化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种化学气相沉积装置，包括：

处理室，被配置为用来界定反应空间；

背板，放置于所述反应空间上方，并且在该背板的中部具有气体入口；

气体扩散构件，设置在该气体入口的下方并且与该气体入口分离，该气体扩散构件被配置为用来扩散通过该气体入口提供的工艺气体，并且该气体扩散元件通过第一耦合构件与该背板耦合；

喷头，放置于所述背板和气体扩散构件的下方并且与所述背板和气体扩散构件分离，在该喷头中通过打孔形成有多个喷孔，该喷头的中部通过第二耦合构件与该气体扩散构件耦合；以及

基座，设置在该喷头的下方并且与该喷头分离，该基座用于支撑衬底。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述第一耦合构件和第二耦合构件的至少其中之一是螺钉。

3.如权利要求1所述的装置，其中该背板的下端部具有形成在其中的膨胀腔，该气体扩散构件的一部分或全部放置在该膨胀腔内部，该膨胀腔具有比该气体入口大的横截面面积。

4.如权利要求1所述的装置，其中该处理室具有六面体形状，

其中该气体扩散构件包括盘形的支撑板和形成在该支撑板的上表面上的四角锥，以及

其中该四角锥的每一个侧面面对该处理室的角。

5.如权利要求4所述的装置，其中该第一耦合构件放置于线性路径上，该线性路径从该四角锥的中心穿过该四角锥的角。

6.如权利要求1所述的装置，其中该处理室具有六面体形状，

其中该气体扩散构件包括矩形板形状的支撑板和形成在该支撑板的上表面上的锥体，以及

其中该支撑板的每一个侧边面对该处理室的角。

7.如权利要求6所述的装置，其中该第一耦合构件放置于线性路径上，该线性路径从该锥体的中心穿过该支撑板的角。

8.如权利要求1所述的装置，其中在该基座内部安装有热丝。

9.如权利要求1所述的装置，其中该喷头由铝制成。

10.如权利要求1所述的装置，还包括夹紧构件，该夹紧构件通过第三耦合构件与该背板耦合以支撑该喷头的边缘，其中在该喷头的侧面与该夹紧构件之间形成预定间隙。

11.如权利要求10所述的装置，还包括插在该夹紧构件和该背板之间的热阻构件，该热阻构件的一侧与该背板的下表面接触，并且该热阻构件的另一侧与该喷头的上表面接触。

12.如权利要求10所述的装置，其中该夹紧构件包括用于支撑该喷头的下表面的水平部分和用于支撑该喷头的侧面的垂直部分，

其中该喷头的边缘的下部形成有用于与该夹紧构件的水平部分啮合的沟槽。

13.如权利要求12所述的装置，其中该热阻构件是薄金属板。

14.如权利要求13所述的装置，其中该热阻构件由铝制成。

15.如权利要求12所述的装置，其中该喷头具有在其边缘形成的椭圆形长孔，并且

该装置还包括通过穿透该夹紧构件的水平部分而插入到该长孔中的第四耦合构件。

16.如权利要求15所述的装置，其中该喷头具有矩形板形状，以及

其中所述夹紧构件、椭圆形长孔和第四耦合构件设置在该喷头的每一个侧面上。

17.如权利要求16所述的装置，其中所述长孔和第四耦合构件成对地设置在该喷头的每一个侧面上。