[发明专利]研磨液、过抛和终点检测方法及装置、抛光设备有效
| 申请号： | 201110233369.3 | 申请日： | 2011-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN102935618A | 公开（公告）日： | 2013-02-20 |
| 发明（设计）人： | 邓武锋;陈枫;洪中山 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B49/00 | 分类号： | B24B49/00;B24B49/12;B24B37/00;G01N21/31;H01L21/3105;H01L21/66;C09G1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种研磨液、过抛和终点检测方法及装置、抛光设备，所述终点检测方法，包括：利用包含显色剂的研磨液对需要抛光的物质进行化学机械抛光；收集从化学机械抛光设备的抛光垫上流出的研磨液；利用比色法获知从抛光垫上流出的研磨液中包含的需要抛光物质的浓度，所述需要抛光物质的浓度逐渐减小到预定范围内，或者研磨液中需要抛光物质的浓度在预定范围内且抛光的时间大于预定时间，或者研磨液中需要抛光物质的浓度第二次在预定范围内，输出终点检测信号。本技术方案可以有效防止晶圆的过抛问题。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 终点 检测 方法 装置 抛光 设备 | ||
【主权项】：
一种研磨液，用于化学机械抛光，其特征在于，所述研磨液中包括显色剂。
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