[发明专利]电子照相感光构件、制造电子照相感光构件的方法、处理盒和电子照相设备有效
申请号: | 201110226085.1 | 申请日: | 2007-10-24 |
公开(公告)号: | CN102253613A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 上杉浩敏;阿部幸裕;三浦大祐;三木宣道;大垣晴信 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G5/147 | 分类号: | G03G5/147;G03G5/05;G03G21/18;G03G15/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 公开一种电子照相感光构件,其抑制刮板翘起的发生,同时具有优异的电子照相特性。还公开用于生产该电子照相感光构件的方法,包含该电子照相感光构件的处理盒,以及电子照相设备。所述电子照相感光构件具有包含具有特定重复结构单元的聚合物的表面层。 | ||
搜索关键词: | 电子 照相 感光 构件 制造 方法 处理 设备 | ||
【主权项】:
1.一种电子照相感光构件,其包括:支承体;和在所述支承体上形成的感光层,其中:所述电子照相感光构件具有表面层,所述表面层包含重复结构单元由各自由下式(1)表示的重复结构单元和各自由下式(a)表示的重复结构单元组成的聚合物:
其中,R1表示氢原子或甲基,R2表示单键或二价基团,Rf1表示具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的单价基团;
其中,R101表示氢原子或甲基,Y表示二价有机基团,Z表示聚合物单元,其中,在所述聚合物中,100个数%所述各自由式(1)表示的重复结构单元由下式(1-6)表示:
其中,R1表示氢原子或甲基,R20表示亚烷基,Rf13表示具有4至6个碳原子的全氟烷基。
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