[发明专利]电子照相感光构件、制造电子照相感光构件的方法、处理盒和电子照相设备有效

专利信息
申请号: 201110226085.1 申请日: 2007-10-24
公开(公告)号: CN102253613A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 上杉浩敏;阿部幸裕;三浦大祐;三木宣道;大垣晴信 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G5/147 分类号: G03G5/147;G03G5/05;G03G21/18;G03G15/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电子 照相 感光 构件 制造 方法 处理 设备
【权利要求书】:

1.一种电子照相感光构件,其包括:

支承体;和

在所述支承体上形成的感光层,其中:

所述电子照相感光构件具有表面层,所述表面层包含重复结构单元由各自由下式(1)表示的重复结构单元和各自由下式(a)表示的重复结构单元组成的聚合物:

其中,R1表示氢原子或甲基,R2表示单键或二价基团,Rf1表示具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的单价基团;

其中,R101表示氢原子或甲基,Y表示二价有机基团,Z表示聚合物单元,

其中,在所述聚合物中,100个数%所述各自由式(1)表示的重复结构单元由下式(1-6)表示:

其中,R1表示氢原子或甲基,R20表示亚烷基,Rf13表示具有4至6个碳原子的全氟烷基。

2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,其中式(a)中的Z为具有各自由下式(b-1)或(b-2)表示的重复结构单元的聚合物单元:

其中,R201表示烷基;

其中,R202表示烷基。

3.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件,其中式(a)中的Y为至少具有由下式(c)表示的结构的二价有机基团:

其中,Y1和Y2各自独立地表示亚烷基。

4.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件,其中:

所述重复结构单元由所述各自由式(1)表示的重复结构单元和所述各自由式(a)表示的重复结构单元组成的聚合物通过聚合各自由下式(3)表示的化合物和各自由下式(d)表示的化合物来合成:

其中,R1表示氢原子或甲基,R2表示单键或二价基团,Rf1表示具有氟烷基和氟亚烷基中的至少之一的单价基团;

其中,R101表示氢原子或甲基,Y表示二价有机基团,Z表示聚合物单元,

其中,100个数%所述各自由式(3)表示的化合物由下式(3-6)表示:

其中,R1表示氢原子或甲基,R20表示亚烷基,Rf13表示具有4至6个碳原子的全氟烷基。

5.一种制造根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件的方法,

其中,所述方法包括通过使用表面层用涂布液形成所述电子照相感光构件的表面层的步骤,

其中,所述表面层用涂布液包含重复结构单元由所述各自由式(1)表示的重复结构单元和所述各自由式(a)表示的重复结构单元组成的聚合物。

6.一种处理盒,其包括:

根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件;和

选自由充电单元、显影单元和清洁单元组成的组的至少一个单元,

其中,将所述构件和所述至少一个单元一体化地支承和可拆卸地连接到电子照相设备的主体上。

7.根据权利要求6所述的处理盒,其中所述清洁单元包括清洁刮板。

8.一种电子照相设备,其包括:

根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件;

充电单元;

曝光单元;

显影单元;

转印单元;和

清洁单元。

9.根据权利要求8所述的电子照相设备,其中所述清洁单元包括清洁刮板。

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