[发明专利]光刻设备、计算机程序产品以及器件制造方法

摘要

本发明公开了一种光刻设备、计算机程序产品以及器件制造方法。所述方法包括将图案从图案形成装置转移到衬底上。所述方法还涉及所述图案形成装置和所述衬底的对准，并包括将辐射束照射到所述图案形成装置上的对准结构上以便获得最终的空间图像；根据扫描方案扫描图像传感器，通过包含所述最终空间图像的目标体积，所述图像传感器和所述衬底的相对位置是已知的或随后被确定；和测量所述图像的特征并由此确定对准结构相对于图像传感器的位置；其中使用可选的扫描方案，其中例如执行通过整个目标体积的具有与传统的单一连续扫描相同的总的持续时间的两个或多个扫描。

主权项

一种光刻设备，包括：照射系统，配置成调节辐射束；衬底台，构造成保持衬底；图像传感器；支撑结构，构造成支撑图案形成装置，所述设备布置成将图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上，图案形成装置还包括至少一个对准结构用于对准图案形成装置与图像传感器；和投影系统，用于投影辐射束，所述设备能够操作以使辐射束通过投影系统到所述对准结构上、以便获得最终的空间图像，并根据扫描方案扫描图像传感器通过包含所述最终空间图像的目标体积、以便测量所述图像的特征并由此允许确定对准结构相对于图像传感器的位置，其中，所述扫描方案使得与在贯穿基本上整个目标体积间隔开的连续的水平面处执行包括多个横向行进动作的单一连续扫描进行对比时，增大所述图像传感器通过所述目标体积的基本上中心部分的时刻之间的时间间隔。