[发明专利]光刻设备、计算机程序产品以及器件制造方法有效

专利信息
申请号: 201110204945.1 申请日: 2011-07-21
公开(公告)号: CN102346376A 公开(公告)日: 2012-02-08
发明(设计)人: S·普斯特玛;M·A·范德克尔克霍夫;B·莫埃斯特;V·M·曼迪阿斯萨拉奥 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 光刻 设备 计算机 程序 产品 以及 器件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻设备,包括:

照射系统,配置成调节辐射束;

衬底台,构造成保持衬底;

图像传感器;

支撑结构,构造成支撑图案形成装置,所述设备布置成将图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上,图案形成装置还包括至少一个对准结构用于对准图案形成装置与图像传感器;和

投影系统,用于投影辐射束,

所述设备能够操作以使辐射束通过投影系统到所述对准结构上、以便获得最终的空间图像,并根据扫描方案扫描图像传感器通过包含所述最终空间图像的目标体积、以便测量所述图像的特征并由此允许确定对准结构相对于图像传感器的位置,

其中,所述扫描方案使得与在贯穿基本上整个目标体积间隔开的连续的水平面处执行包括多个横向行进动作的单一连续扫描进行对比时,增大所述图像传感器通过所述目标体积的基本上中心部分的时刻之间的时间间隔。

2.根据权利要求1所述的光刻设备,所述设备能够操作使得所述可选的扫描方案包括多个扫描,每个扫描包括在贯穿目标体积的至少一部分间隔开的连续的水平面处的多个横向行进动作。

3.根据权利要求2所述的光刻设备,所述设备能够操作使得至少两个扫描中的每一个扫描包括在贯穿所述目标体积的基本上相等部分间隔开的连续的水平面处的多个横向行进动作。

4.根据权利要求3所述的光刻设备,所述设备能够操作使得至少两个扫描中的每一个扫描包括在贯穿基本上整个目标体积间隔开的连续的水平面处的多个横向行进动作。

5.根据权利要求2-4中任一项所述的光刻设备,所述设备能够操作使得所述多个扫描的总的持续时间不超过具有类似精确度的传统的单一连续扫描的总的持续时间。

6.根据权利要求2-5中任一项所述的光刻设备,所述设备能够操作使得邻接相继的扫描的任何连接移动通过所述目标体积的基本上中心部分。

7.根据权利要求1所述的光刻设备,所述设备能够操作使得以伪随机化方式沿水平和垂直方向扫描所述目标体积。

8.一种器件制造方法,包括将图案从图案形成装置转移到衬底上的步骤,所述方法还包括通过执行下面的步骤将所述图案形成装置与所述衬底对准:

将辐射束照射到所述图案形成装置上的对准结构上,以便获得最终空间图像;

根据扫描方案扫描图像传感器通过包含所述最终空间图像的目标体积,所述图像传感器和所述衬底的相对位置是已知的或随后被确定;和

测量所述图像的特征并由此确定对准结构相对于图像传感器的位置;

其中所述扫描方案使得与在贯穿基本上整个目标体积间隔开的连续的水平面处执行包括多个横向行进动作的单一连续扫描进行对比时,增大所述图像传感器通过目标体积的基本上中心部分的时刻之间的时间间隔。

9.如权利要求8所述的器件制造方法,其中,所述可选的扫描方案包括多个扫描,每个扫描包括在贯穿目标体积的至少一部分间隔开的连续的水平面处的多个横向行进动作。

10.如权利要求9所述的器件制造方法,其中,至少两个扫描中的每一个扫描包括在贯穿所述目标体积的基本上相同部分间隔开的连续的水平面处的多个横向行进动作。

11.如权利要求10所述的器件制造方法,其中,至少两个扫描中的每一个扫描包括在贯穿基本上整个所述目标体积间隔开的连续的水平面处的多个横向行进动作。

12.如权利要求9至11中任一项所述的器件制造方法,其中,所述多个扫描的总的持续时间不超过具有类似精确度的传统的单一连续扫描的总的持续时间。

13.如权利要求9至12中任一项所述的器件制造方法,其中,邻接相继的扫描的任何连接移动通过所述目标体积的基本上中心部分。

14.如权利要求13所述的器件制造方法,其中,所述连接移动偏离一个扫描的终点和下一个扫描的起点之间的直接路径,以便最大化在所述目标体积的所述基本上中心部分内的横向行进。

15.如权利要求8至14中任一项所述的器件制造方法,其中,以伪随机化方式沿水平和垂直方向扫描所述目标体积。

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