[发明专利]一种GaN基垂直结构LED芯片结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201110198340.6 申请日: 2011-07-15
公开(公告)号: CN102255027A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 李睿;齐胜利;郝茂盛;陶淳;潘尧波;张楠;朱广敏 申请(专利权)人: 上海蓝光科技有限公司
主分类号: H01L33/40 分类号: H01L33/40;H01L33/00
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 李仪萍
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种GaN基垂直结构LED芯片结构,其包括设有第一Au层(9)的第一器件结构和表面蒸镀第二Au层(11)的支撑衬底(10);第一金层(9)与第二金层(11)表面完全接触并紧密键合;所述第一器件结构包括GaN基LED外延片;所述p-GaN层(1)上设有ITO层(5);所述ITO层(5)上依次设有阻挡层(6)、银层(7)、覆盖层(8)以及第一金层(9)。本发明等离子表面处理能够显著降低Au-Au键合温度及压力的要求,缩短键合时间。既适应了Ag不宜高温长时处理的固有特性,也改善了GaN基垂直结构LED的键合质量。采用ITO/阻挡层/Ag/覆盖层/Au结构有助于进一步防止Ag的受热团聚效应。
搜索关键词: 一种 gan 垂直 结构 led 芯片 及其 制备 方法
【主权项】:
一种GaN基垂直结构LED芯片结构,其特征在于:其包括设有第一Au层(9)的第一器件结构和表面蒸镀第二Au层(11)的支撑衬底(10);第一金层(9)与第二金层(11)表面完全接触并紧密键合;所述第一器件结构包括GaN基LED外延片,该GaN基LED外延片包括蓝宝石衬底(4)、位于蓝宝石衬底(4)上的n‑GaN层(3)、位于n‑GaN层(3)上的有源层(2)以及位于有源层(2)上的p‑GaN层(1)。所述p‑GaN层(1)上设有ITO层(5);所述ITO层(5)上依次设有阻挡层(6)、银层(7)、覆盖层(8)以及第一金层(9)。
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