[发明专利]一种MOCVD设备的双层进气喷头装置

摘要

本发明公开了一种MOCVD设备的双层进气喷头装置，它包括一个内有上进气腔、下进气腔和水冷腔的封闭型外壳体，特征是：在下进气腔与反应室之间安装有将下进气腔与反应室连通的下出气管，在上进气腔和下出气管之间安装有将上进气腔和下出气管连通的上出气管，上出气管的外径小于下出气管的内径，且上出气管的下端伸入到下出气管内，但不能缩到下进气腔内，上出气管与下出气管之间设有间隙。两种类型的反应气体在进入反应室前在上出气管的出口与下出气管出口之间的空间进行预混合。本发明具有将不同反应气体分别送入反应室、使不同反应气体到达衬底就已经能充分混合、预反应小的特点，可提高材料生长的晶体质量以及原材料利用率。

主权项

一种MOCVD设备的进气喷头装置，包括一个由顶板、侧壁以和底板组成的封闭型外壳，封闭型外壳的内部被上中层板和下中层板分成三个部分，分别为上进气腔、下进气腔以及水冷腔，在上进气腔对应的侧壁上安装有负责将一种类型的气体输运到上进气腔内的上进气管，在下进气腔对应的侧壁上安装有负责将另一种类型的气体输运到下进气腔内的下进气管，在水冷腔两端对应的侧壁上分别安装有冷却水进水管和冷却水出水管，其特征在于：在下进气腔与反应室之间安装有将下进气腔与反应室连通的下出气管，在上进气腔和下出气管之间安装有将上进气腔和下出气管连通的上出气管，上出气管的外径小于下出气管的内径，且上出气管的下端伸入到下出气管内，上出气管与下出气管之间设有间隙。