[发明专利]一种MOCVD设备的双层进气喷头装置无效

专利信息
申请号: 201110188047.1 申请日: 2011-07-06
公开(公告)号: CN102230166A 公开(公告)日: 2011-11-02
发明(设计)人: 刘军林;蒲勇;方文卿;王立;江风益 申请(专利权)人: 刘军林
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 江西省专利事务所 36100 代理人: 张文
地址: 330047 江西省南*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 mocvd 设备 双层 喷头 装置
【权利要求书】:

1.一种MOCVD设备的进气喷头装置,包括一个由顶板、侧壁以和底板组成的封闭型外壳,封闭型外壳的内部被上中层板和下中层板分成三个部分,分别为上进气腔、下进气腔以及水冷腔,在上进气腔对应的侧壁上安装有负责将一种类型的气体输运到上进气腔内的上进气管,在下进气腔对应的侧壁上安装有负责将另一种类型的气体输运到下进气腔内的下进气管,在水冷腔两端对应的侧壁上分别安装有冷却水进水管和冷却水出水管,其特征在于:在下进气腔与反应室之间安装有将下进气腔与反应室连通的下出气管,在上进气腔和下出气管之间安装有将上进气腔和下出气管连通的上出气管,上出气管的外径小于下出气管的内径,且上出气管的下端伸入到下出气管内,上出气管与下出气管之间设有间隙。

2.根据权利要求1所述的MOCVD设备的进气喷头装置,其特征在于:上出气管的下端伸入到下出气管内,且上出气管的出口到下出气管的出口的距离h为2--30mm。

3.根据权利要求1所述的MOCVD设备的进气喷头装置,其特征在于:下出气管的出口到衬底的距离设为10-20mm。

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