[发明专利]反射折射投影光学系统、扫描曝光装置、微元件的制造方法有效
申请号: | 201110163295.0 | 申请日: | 2007-02-23 |
公开(公告)号: | CN102253477A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 加藤正纪 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G02B17/08 | 分类号: | G02B17/08;G03F7/20;G03F7/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁 |
地址: | 日本东京千代*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明是有关于一种反射折射投影光学系统,把配置于第1面的第1物体的放大像形成在配置于第2面的第2物体上,所述反射折射投影光学系统的特征在于包括:光束传送部,从所述第1面发出并沿着与所述第1面正交的方向行进的光,是在沿着所述第1面的第1方向传送,并使在所述第1方向已传送的光沿着与所述第1面正交的方向行进,并引导往所述第2面。 | ||
搜索关键词: | 反射 折射 投影 光学系统 扫描 曝光 装置 元件 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种反射折射投影光学系统,把配置于第1面的第1物体的放大像形成在配置于第2面的第2物体上,所述反射折射投影光学系统的特征在于包括:光束传送部,从所述第1面发出并沿着与所述第1面正交的方向行进的光,是在沿着所述第1面的第1方向传送,并使在所述第1方向已传送的光沿着与所述第1面正交的方向行进,并引导往所述第2面。
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