[发明专利]反射折射投影光学系统、扫描曝光装置、微元件的制造方法

权利要求书

1.一种反射折射投影光学系统，把配置于第1面的第1物体的放大像形成在配置于第2面的第2物体上，所述反射折射投影光学系统的特征在于包括：

光束传送部，从所述第1面发出并沿着与所述第1面正交的方向行进的光，是在沿着所述第1面的第1方向传送，并使在所述第1方向已传送的光沿着与所述第1面正交的方向行进，并引导往所述第2面。

2.根据权利要求1所述的反射折射投影光学系统，其特征在于所述光束传送部包括：

第1偏向构件，把沿着与所述第1面正交的方向行进的光，偏向到所述第1方向；

第2偏向构件，使从所述第1偏向构件而来、往所述第1方向行进的光，沿与所述第1面正交的方向行进，并引导往所述第2面。

3.根据权利要求2所述的反射折射投影光学系统，其特征在于所述反射折射投影光学系统包括：

凹面反射镜，配置于所述第1面与所述第2面之间的光路中；

第1透镜群，配置于所述第1面与所述凹面反射镜之间的光路中；

第2透镜群，配置于所述第1透镜群与所述凹面反射镜之间的光路中；以及

第3透镜群，配置于所述第2偏向构件与所述第2面之间的光路中，且具有与所述第1透镜群的光轴大致平行的光轴，

其中，所述第1偏向构件配置在所述第2透镜群与所述第2面之间的光路中，使从所述第2透镜群而来、沿着与所述第1面正交的方向而往所述第1面侧的光，偏向到所述第1方向，且

所述第2偏向构件配置在所述第1偏向构件与所述第2面之间的光路中，使从所述第1偏向构件而来、沿着所述第1方向行进的光，沿与所述第1面正交的方向偏向到所述第2面侧。

4.根据权利要求3所述的反射折射投影光学系统，其特征在于：

所述第1面与所述第2面的距离大于所述第1面与所述凹面反射镜的距离。

5.根据权利要求3所述的反射折射投影光学系统，其特征在于：

构成所述第1透镜群、所述第2透镜群、以及所述第3透镜群，且具有折射能力的光学构件，是以其光轴与重力方向平行的方式而配置着。

6.根据权利要求3所述的反射折射投影光学系统，其特征在于还包括：

孔径光圈，所述孔径光圈配置于所述凹面反射镜与所述第2透镜群之间的光路中，用以规定所述反射折射投影光学系统的所述第2面侧数值孔径，且

所述孔径光圈以所述第1面侧及所述第2面侧大致是远心的方式而定位着。

7.根据权利要求3所述的反射折射投影光学系统，其特征在于：

当将所述第1透镜群的焦点距离设为f1、将所述第3透镜群的焦点距离设为f 3、将所述投影光学系统的倍率设为β时，满足

0.8×|β|≤f3/f1≤1.25×|β|

|β|≥1.8。

8.根据权利要求3所述的反射折射投影光学系统，其特征在于：

所述反射折射投影光学系统包括：调整所述反射折射投影光学系统的光学特性的光学特性调整机构。

9.根据权利要求8所述的反射折射投影光学系统，其特征在于：

所述光学特性调整机构配置于所述凹面反射镜与所述第2面之间的光路中。

10.根据权利要求1所述的反射折射投影光学系统，其特征在于：

形成于所述第2面的所述第1物体的放大像，是所述第1物体的一次像。

11.根据权利要求2所述的反射折射投影光学系统，其特征在于：

所述第1偏向构件，使沿着与所述第1面正交的方向行进的光，以横切所述第1透镜群的光轴的方式被偏向。

12.一种反射折射光学装置，其特征在于包括：

形成第1面的中间像的第1成像光学系统、以及使已形成所述中间像的面与所述第2面呈光学共轭的第2成像光学系统，

其中，所述第1成像光学系统与所述第2成像光学系统的至少一个，藉由权利要求1～11任一项所述的反射折射投影光学系统而构成。