[发明专利]联萘胺分子印迹聚合物的制备方法及应用方法无效
| 申请号： | 201110141761.5 | 申请日： | 2011-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN102311521A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 董红星;王艳辉;李俊青;佟飞;王振兴;沈贤德 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工程大学 |
| 主分类号： | C08F265/02 | 分类号： | C08F265/02;C08F2/44;C08J9/26;B01J20/285;B01J20/30;B01D15/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供的是一种联萘胺分子印迹聚合物的制备方法及应用方法。将S-1，1-联萘-2-胺和甲基丙烯酸溶于制孔剂中，超声条件下通氮气5分钟，18℃常压条件下预聚合10小时，使S-1，1-联萘-2-胺与甲基丙烯酸充分作用形成复合物，加入二甲基丙烯酸乙二醇酯及偶氮二异丁腈，再次在超声条件下通氮气5分钟，然后置于60℃恒温水浴锅中聚合12小时，得到块状分子印迹聚合物，粉碎、研磨，过60μm-20μm筛后，用丙酮反复沉降，去除极细颗粒，干燥后得到联萘胺分子印迹聚合物。作为高效液相色谱固定相，实现对外消旋DABN的手性拆分，其分离因子可达2.4。本发明的方法分离性能高，成本低，操作简单，稳定性好。 | ||
| 搜索关键词： | 联萘胺 分子 印迹 聚合物 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种联萘胺分子印迹聚合物的制备方法，其特征是：将S 1，1 联萘 2 胺和甲基丙烯酸溶于制孔剂中，超声条件下通氮气5分钟，18℃常压条件下预聚合10小时，使S 1，1 联萘 2 胺与甲基丙烯酸充分作用形成复合物，加入二甲基丙烯酸乙二醇酯及偶氮二异丁腈，再次在超声条件下通氮气5分钟，然后置于60℃恒温水浴锅中聚合12小时，得到块状分子印迹聚合物，然后将所得块状聚合物取出粉碎、研磨，过60μm 20μm筛后，用丙酮反复沉降，去除极细颗粒，干燥后得到联萘胺分子印迹聚合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工程大学，未经哈尔滨工程大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110141761.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
